醇類硅溶膠高剪切研磨分散機

直接在硅溶膠中添加成膜助劑會出現(xiàn)一系列的問題，其中比較重要的一個 問題就是成膜助劑與硅溶膠的穩(wěn)定性。硅溶膠是靠電荷或其它一些穩(wěn)定劑來輔助分散的熱 力學不穩(wěn)定體系，在復合過程中因環(huán)境條件發(fā)生變化可能引起絮凝、結(jié)塊或凝膠，成膜助劑要與硅溶膠具有良好的相容性以及需要高速分散剪切的設(shè)備來達到產(chǎn)品要求。

上海思峻采用德國博格曼雙端面機械密封，在保證冷卻水的前提下，可24小時連續(xù)運行。而普通乳化機很難做到連續(xù)長時間的運行，并且普通乳化機不能承受高轉(zhuǎn)速的運行。可以處理量大，運轉(zhuǎn)更平穩(wěn)，拆裝更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn)，粒徑分布范圍窄，分散效果佳，*，物料100通過分散剪切。

一種成膜硅溶膠的制備方法，包括以下步驟：
1)按配比將改性劑滴加到娃溶膠中攬拌混合后，繼續(xù)攬拌，得到混合溶液；
2)再將成膜助劑滴加到混合溶液中攬拌混合后，繼續(xù)攬拌，即得成膜硅溶膠。
改性劑的滴加速率為6-8ml/min。更優(yōu)選地，所述硅烷偶聯(lián) 劑的滴加速率為7ml/min。
攬拌混合的時間為0.5-2小時。更優(yōu)選地，所述攬拌混合的 時間為1小時。
繼續(xù)攬拌的時間為1-72小時。更優(yōu)選地，所述繼續(xù)攬拌的 時間為48小時。
成膜助劑的滴加速率為8-12ml/min。更優(yōu)選地，所述成膜 助劑的滴加速率為lOml/min。
攬拌混合的時間為0.5-2小時。更優(yōu)選地，所述攬拌混合的 時間為1小時。
繼續(xù)攬拌的時間為1-5小時。更優(yōu)選地，所述繼續(xù)攬拌的時 間為2小時。
攬拌混合為持續(xù)攬拌混合。
硅溶膠為含二氧化硅顆粒的膠體水溶液。
硅溶膠的固含量（即二氧化硅顆粒含量)為6-40wt%。進一步優(yōu)選 地，所述硅溶膠的固含量(即二氧化娃顆粒含量)為30wt %。

研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

 
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以下為型號表供參考：

醇類硅溶膠高剪切研磨分散機

• GRS2000小型納米白炭黑管線式分散機
• GMD2000蠕蟲膨脹石墨高剪切分散機
• GMD2000磷酸氫鈣混懸劑分散機
• GMD2000石墨烯富鋅底漆涂料分散機
• GMD2000納米金屬氧化物研磨分散機
• GRS2000納米白炭黑管線式分散機
• GMD2000光刻膠去除劑高剪切分散機
• GRS2000化學肥料高剪切乳化研磨分散機
• GMD2000藥用輔料硬脂酸鹽研磨分散機
• GRS2000磷酸氫鈣高剪切分散機